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  • GMD2000超細研磨分散機
    超細研磨分散機

    超細研磨分散機,超細研磨機,超細分散機,超細研磨分散設備,德國研磨分散機,高速研磨分散機,研磨分散機是一款集研磨和分散一體化的設備,是一項新的技術(shù)革新。研磨分散機是將膠體磨(錐體磨)+高剪切分散機一體化的設備,先研磨后分散,物料研磨后又瞬間進行分散,避免了物料的二次團聚。

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  • GMD2000/4高剪切高速吡喹酮混懸液研磨分散機
    高剪切高速吡喹酮混懸液研磨分散機

    GMD2000系列高剪切高速吡喹酮混懸液研磨分散機具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑微米級0.2-2μm,可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。混懸液分散乳化機由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加,從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

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  • GMD2000/4生長素溶液管線式研磨分散機
    生長素溶液管線式研磨分散機

    【生長素溶液管線式研磨分散機的概述】 GMD2000系列研磨分散設備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換

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  • GMD2000/4中成藥管線式研磨分散機
    中成藥管線式研磨分散機

    中成藥管線式研磨分散機是一款集研磨和分散一體化的設備,是一項新的技術(shù)革新。研磨分散機是將膠體磨(錐體磨)+高剪切分散機一體化的設備,先研磨后分散,物料研磨后又瞬間進行分散,避免了物料的二次團聚。 膠體磨和分散機的一體化設計相對于膠體磨和分散機的串聯(lián)而言更具優(yōu)勢。串聯(lián)的話存在時間差,當物料通過膠體磨之后,磨細后物料會出現(xiàn)抱團的現(xiàn)象,再經(jīng)過分散機分散,效果不是很好。而GMD研磨分散機的話,物料磨細后

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  • GMD2000/4轉(zhuǎn)移因子研磨分散機
    轉(zhuǎn)移因子研磨分散機

    【SGN轉(zhuǎn)移因子研磨分散機的簡介】 高剪切研磨分散機轉(zhuǎn)移因子膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GM2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改

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  • GMD2000/4腸溶性包衣高速研磨分散機
    腸溶性包衣高速研磨分散機

    腸溶性包衣高速研磨分散機,包衣生產(chǎn)設備納米二氧化鈦藥品包衣高速研磨分散機,胃溶性包衣高速研磨分散機,水溶性包衣高速研磨分散機,醇溶性包衣高速研磨分散機,醫(yī)藥級二氧化鈦高速研磨分散機,納米二氧化鈦醫(yī)藥用高速研磨分散機,藥品包衣高速研磨分散機

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  • GMD2000濕法超細研磨機
    濕法超細研磨機

    SGN濕法超細研磨機的特點 ①線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。 ②定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。 ③定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離 ④在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 ⑤高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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  • GMD2000多功能管線式研磨分散機
    多功能管線式研磨分散機

    【多功能管線式研磨分散機的結(jié)構(gòu)】 研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,

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